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Technology & Quality

열해석 시뮬레이션으로 설계하고, 레이저 트리밍으로 저항을 Target에 맞추고, 3σ로 관리합니다. 설계 값이 그대로 제품 성능이 되는 것이 BH세미콘 품질의 근거입니다.

Core Competence

설계는 시뮬레이션으로,
저항은 레이저로 맞춥니다

BH세미콘 히터 품질의 두 기둥 — 열해석 시뮬레이션 기반 자체 설계와 레이저 트리밍 기반 미세 저항 관리. 설계 값이 그대로 제품 성능이 되도록 처음부터 끝까지 수치로 관리합니다.

HighTargetLow ΔT 해석 · 보정 설계 ● 리프트핀·홀 주변 국부 열손실 → 회로 밀도로 보정
01 · Thermal Simulation

열해석 시뮬레이션 기반 자체 설계

공정이 요구하는 온도 분포를 해석 모델로 환산하고, 존 별 발열 밀도와 회로 선폭을 시뮬레이션으로 최적화합니다. 시제작 전에 온도 균일성(ΔT)을 예측하므로 시행착오 없이 첫 설계에서 목표 성능에 도달합니다.

  • 요구 온도 분포 → 발열 밀도 설계로 환산하는 자체 해석 프로세스
  • 리프트핀·홀·냉각 구조에 의한 국부 열손실을 회로 밀도로 사전 보정
  • 1 Zone부터 15 Zone 이상까지 존 배치·경계 위치를 해석으로 결정
  • 시뮬레이션 결과와 실측 온도를 비교해 해석 모델을 지속 보정
구간1 / 3
TARGET12.50 Ω
MEASURED11.72 Ω
POSITIONING
02 · Laser Trimming & 3σ Control

레이저 트리밍 · 3σ 미세 저항 관리

레이저로 발열 회로의 구간 저항을 실시간 측정하면서 Target 저항에 정확히 맞추는 트리밍 공정을 보유합니다. 존 별·구간 별 저항 편차를 미세하게 관리하고, 전 수량의 저항 데이터를 3σ 기준으로 통계 관리해 온도 균일성을 제품마다 재현합니다.

  • 측정 → 트리밍 → 재측정을 반복해 Target 저항에 수렴하는 폐루프 공정
  • 존 별 · 구간 별 미세 저항 편차 관리로 발열 밀도 균일화
  • 전 수량 저항 데이터 기록 · ±3σ 통계적 공정 관리(SPC)
  • 시뮬레이션 설계 값과 실제 저항의 일치 → 설계 성능을 그대로 구현
01요구 온도 분포
02열해석 시뮬레이션 설계
03회로 형성 (도금·인쇄)
04레이저 트리밍 저항 매칭
053σ 통계 관리 · 출하
Design Capability

히터 설계 역량

히터의 성능은 소재가 아니라 회로 설계에서 갈립니다. 요구 온도 분포를 발열 밀도로 환산하고, 이를 초미세회로 패턴으로 구현하는 것이 BH세미콘의 핵심 기술입니다. 존 수는 1 Zone부터 15 Zone 이상까지, 사용 온도는 110~400℃, 플레이트 두께는 2T~4T까지 제한 없이 설계합니다.

1 Zone단일 존
2 8 15
15 Zone +고밀도 멀티존

1 Zone 단일 존부터 15 Zone 이상 고밀도 구성까지 — 존 수·형상·발열 밀도를 요구 사양에 맞춰 제한 없이 설계·제작합니다.

양산 실적 예시 — 2 · 8 · 15 Zone

2 Zone

내주·외주 독립 제어로 기본 온도 균일성을 확보하는 표준 구성입니다.

8 Zone

동심원과 방위각을 함께 분할해 장비 구조에 의한 국부 열 손실까지 보정하는 정밀 구성입니다.

15 Zone +

웨이퍼 전면을 미세 분할 제어하는 고밀도 구성. 도금·인쇄 양 공법으로 양산 실적을 보유하며, 15 Zone 이상도 설계·제작합니다.

Measured Uniformity · 15 Zone 실측

온도 균일도,
0.01℃ 단위로 증명합니다

≤ 0.04℃웨이퍼 전면 온도 편차
(±0.02℃ 이내)
≤ 0.05℃온도 표준편차 σ

15 Zone 히터로 제어한 웨이퍼 전면의 측정 온도가 설정 온도 ±0.02℃ 안에 들어옵니다. 최고·최저 온도 차 0.04℃ 이하, 표준편차 σ 0.05℃ 이하 — 노광 트랙의 Soft Bake · PEB 공정이 요구하는 균일도 Spec(σ<0.05℃)을 충족하는 수준으로 제작합니다.

※ 15 Zone 히터, KrF 설비 기준 실측값 — Soft Bake · PEB(100℃) σ 0.041~0.049℃ / Spec σ<0.05℃

15 Zone 히터 실측 온도 분포 맵: 110℃ 설정에서 웨이퍼 전면이 110℃ 부근 녹·황색 대역에 고르게 분포

초미세회로 형성기술

국내 유일의 초미세회로 형성기술로 회로 선폭과 간격을 미세하게 제어합니다. 발열 밀도를 위치별로 자유롭게 배분할 수 있어, 복잡한 온도 분포 요구에도 회로 설계만으로 대응할 수 있습니다.

온도 균일성 검증

설계–시제작–측정–보정의 반복 사이클로 온도 균일성을 검증합니다. 저온부터 고온 제품까지 고품질의 온도 균일성과 내구성을 확보한 것이 20년 양산 실적의 비결입니다.

Dual Process

도금 · 인쇄, 두 개의 무기

BH세미콘은 발열 회로를 형성하는 두 가지 공법을 모두 자체 개발해 보유하고 있습니다. 요구 온도와 정밀도에 따라 최적의 공법을 선택 적용합니다.

Plating

도금 공법

세라믹 표면에 도금으로 회로를 형성하는 공법. 정밀한 회로 구현이 강점이며 AlN Heater 양산에 적용 중입니다.

강점미세 회로 정밀도, 균일한 도체 두께
Printing

인쇄 공법

발열체 페이스트를 인쇄·소성하여 회로를 형성하는 공법. 더 높은 사용 온도가 강점이며 AlN Heater 양산에 적용 중입니다.

강점고온 대응, 다층·복합 패턴 구현
Printed Electronics

인쇄 기술을 전자부품으로

히터 발열 회로를 인쇄하며 쌓아온 미세 패턴 기술을 PET · Ag 인쇄 전자부품으로 넓혔습니다. 인쇄 방식으로 100µm 미세 패턴까지 구현하고, 이를 정전용량 터치 센서 등에 적용합니다.

Printing Technology · Fine Pattern

100µm 미세 패턴까지,
인쇄 방식으로 구현합니다

100µm인쇄 방식으로 구현하는
최소 라인 폭

PET 필름 위에 은(Ag) 페이스트를 인쇄해 전극 패턴을 형성합니다. 인쇄 방식으로도 폭 100µm의 미세 패턴까지 구현할 수 있으며, 히터 발열 회로 인쇄로 다져온 미세 패턴 기술로 라인 폭과 두께를 일정하게 관리합니다.

  • Ag 페이스트 인쇄
  • 100µm 미세 패턴
  • 3D 형상 측정 관리
인쇄 Ag 라인 3D 표면 형상 측정 이미지: PET 위에 볼록하게 형성된 라인
인쇄 Ag 라인 3D 표면 형상 측정 (높이 스케일 0~35µm)
How it works

정전용량 터치 센서 동작 원리

손가락이 표면에 닿으면 정전용량 변화 → 터치 감지 → 컨트롤러에서 신호 처리

접촉 전기준 정전용량 유지
ΔC 발생
접촉 시정전용량 변화 발생
신호 처리터치 · 제스처 인식

Printed Electronics 제품 보기

Manufacturing Process

11단계 사내 일관 생산공정

전처리부터 출하검사까지 전 공정을 사내에서 완결합니다. 공정 간 이동이 없어 품질 편차가 작고, 리드타임과 기밀 유지에도 유리합니다.

전처리 설비
01전처리
도금 라인
02도금 라인
회로 형성 공정
03회로 형성
회로 검사
04회로 검사
인쇄 공정
05인쇄
O/G 인쇄 공정
06O/G 인쇄
열처리 설비
07열처리
트리밍 설비
08레이저 트리밍
솔더링 공정
09솔더링
브레이징 공정
10Brazing
조립 및 출하검사
11Ass'y · 출하검사
100%

전 제품 출하 전
전수 검사 완결

Certification & Patent

인증 · 특허

ISO 9001

품질경영시스템 국제 표준 인증 (DAS, 2006년 획득)

AlN Heater 제조특허

AlN Heater 제조 방법 관련 특허 출원·보유 (2015~)

인증성적서 · 특허보유현황 전체 보기

기술이 궁금하시다면

공정 조건을 알려주시면 설계 검토 의견을 드립니다.

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