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연구소 소개

AlN Heater란?

Aluminum Nitride Heater

반도체 Photo공정에 적용되며 Photo Resist를 경화 시키는 목적의 세라믹 히터입니다. 고정밀 온도 균일도를 요구합니다.

AlN Heater의 장점

  • 높은 열전도도/ 열 충격 저항성

    균일한 열 분포,
    높은 열전도도 요구에 적합

  • 낮은 열팽창 계수

    Si와 비슷한 열팽창계수로
    온도변화의 저항성

  • 불소 및 염소 가스에 대한 강한 내식성

    우수한 내식성으로
    공정 중에 발생되는 파티클 감소

보유기술

  • 1

    온도 uniformity 특성을 고려한 회로 설계 기술

  • 2

    Brazing 접합 기술

  • 3

    다양한 영역의 온도 사용 가능(저온영역 ~ 고온 영역에 걸쳐 용도에 맞게 설계 가능)

  • 4

    뛰어난 내구성 확보, 고 신뢰성 확보

  • 5

    정밀 회로 인쇄 기술 확보

  • 6

    열처리 요소 기술 확보

  • 7

    반도체 Photo장비 핵심 부품

  • 8

    박막 Heater개발 선도 기술(개발 능력 보유)

  • 9

    무전해 도금 기술: Cu, Ni, Au 무전해 도금 기술